Reduction of the pollutants arising in plasma assisted silicon etching processes by use of elemental fluorine
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Hauptabteilung Versuchstechnik (HVT) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1998 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240040736 |
| HGF-Programm | 41.08.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Michel, B. [Hrsg.] Proc.of the Internat.Conf.and Exhibition Micro Materials : Micro Mat '97, Berlin, April 16-18, 1997 Dresden : dpp Goldenbogen, 1997 |