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Reduction of the pollutants arising in plasma assisted silicon etching processes by use of elemental fluorine

Guber, A.E.; Köhler, U.; Brandner, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Hauptabteilung Versuchstechnik (HVT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240040736
HGF-Programm 41.08.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Michel, B. [Hrsg.] Proc.of the Internat.Conf.and Exhibition Micro Materials : Micro Mat '97, Berlin, April 16-18, 1997 Dresden : dpp Goldenbogen, 1997
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