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Future reticle demand and next generation lithography technologies

Behringer, U.; Ehrlich, C.; Fortagne, O.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240044540
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components '98 : Lectures Held at the GMM Conf., München, November 16-17, 1998 Berlin [u.a.] : VDE-Verl., 1998 S.9-16 (GMM-Fachbericht ; 25) Behringer, U. [Hrsg.] 15th European Conf.on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents '98, München, November 16-17, 1998 Bellingham, Wash. : SPIE, 1999 S.1-8 (SPIE Proceedings Series ; 3665)
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