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Graded layer design for stress-reduced and strongly adherent superhard amorphous carbon films

Stüber, M.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Kratzsch, A.; Holleck, H.



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seit 09.12.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240044569
HGF-Programm 41.02.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Proc.of the 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998 Surface and Coatings Technology, 116-119(1999)
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