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Chemically inert membrane separator fabricated with the AMANDA-process

Rummler, Z.; Bacher, W.; Saile, V.; Schomburg, W.K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240045211
HGF-Programm 41.06.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk HARMST'99 - Workshop and Exhibition on High Aspect Ratio Microstructure Technology, Chiba, J, June 13-15, 1999 Microsystem Technologies, 6(2000) DOI: 10.1007/s005420000045
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