Depostion and properties of SiC thin films in single and multilayer coatings

Leiste, H.; Dambacher, U.; Ulrich, S.; Stüber, M.; Holleck, H.

Seitenaufrufe: 6
seit 06.10.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1999
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240046780
HGF-Programm	42 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	CIP '99 : Proc.of the 12th Internat.Colloquium on Plasma Processes, Antibes, F, June 6-10, 1999 Paris : SFV, 1999 (Le Vide : Science, Technique et Applications ; Suppl.291)