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Herstellung von Formeinsätzen aus Nickel bis 120 mm Durchmesser mit Hilfe konventioneller Optischer Lithographie

Chung, S.J.; Hein, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 240047297
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 4.Statuskolloquium des Programms Mikrosystemtechnik, Karlsruhe, 30.-31.März 2000 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6423 (März 2000)
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