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Simulation der Bestrahlung und Entwicklung von Resists mittels Röntgentiefenlithographie und optischer Lithographie

Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 240048812
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Erscheinungsvermerk Workshop zum Thema 'Simulationen in der Mikrosystemtechnik', Forschungszentrum Karlsruhe, 26.Oktober 2000 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6564 (November 2000)
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