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Characterisation of silicon carbide and silicon nitride thin films and Si₃N₄/SiC multilayers

Lattemann, M.; Ulrich, S.; Holleck, H.; Stüber, M.; Leiste, H.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240051061
HGF-Programm 42 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Proc.of the 12th European Conf.on Diamond, Diamond-like Materials, Carbon Nanotubes, Nitride and Silicon Carbide (Diamond 2001), Budapest, H, September 2-9, 2001 Diamond and Related Materials, 11(2002)
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