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Deviations in absorber shape of electron beam lithography using the example of LIGA-microspektrometers

Last, A.; Hein, H.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240052625
HGF-Programm 41.08.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 2002 IEEE/LEOS Internat.Conf.on Optical MEMS,Lugano, CH, August 20-23, 2002 Conference Digest New York, N.Y. : IEEE, 2002
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