Deviations in absorber shape of electron beam lithography using the example of LIGA-microspektrometers
Last, A.
; Hein, H.; Mohr, J.
; Hein, H.; Mohr, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2002 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240052625 |
| HGF-Programm | 41.08.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 2002 IEEE/LEOS Internat.Conf.on Optical MEMS,Lugano, CH, August 20-23, 2002 Conference Digest New York, N.Y. : IEEE, 2002 |