Alloyed and hydrogenated diamond-like carbon thin films deposited by a new high performance microwave low pressure plasma source

Niederberger, L.; Holleck, H.; Leiste, H.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Baumann, H.

Seitenaufrufe: 34
seit 29.04.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2003
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240053214
HGF-Programm	42.02.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.311 Surface and Coatings Technology, 174-175(2003) S.708-12 DOI:10.1016/S0257-8972(03)00612-1