Investigation and characterisation of silicon nitride and silicon carbide thin films
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung (IMF) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2003 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240053215 |
| HGF-Programm | 42.02.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.266 Surface and Coatings Technology, 174-175(2003) S.365-69 DOI:10.1016/S0257-8972(03)00695-9 |