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Investigation and characterisation of silicon nitride and silicon carbide thin films

Lattemann, M.; Nold, E.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Holleck, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240053215
HGF-Programm 42.02.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.266 Surface and Coatings Technology, 174-175(2003) S.365-69 DOI:10.1016/S0257-8972(03)00695-9
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