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Shape deviations in masks for optical structures produced by electron beam lithography

Last, A.; Hein, H.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240054889
HGF-Programm 41.07.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003 Microsystems Technologies, 10(2004) DOI:10.1007/s00542-004-0386-3
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