Shape deviations in masks for optical structures produced by electron beam lithography
Last, A.
; Hein, H.; Mohr, J.
; Hein, H.; Mohr, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2004 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240054889 |
| HGF-Programm | 41.07.02 (POF I, LK 01) Metallische Mikrostrukturapparate |
| Erscheinungsvermerk | 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003 Microsystems Technologies, 10(2004) DOI:10.1007/s00542-004-0386-3 |