Arbeitsmasken für die Röntgentiefenlithographie

Hein, H.; Janssen, A.; Matthis, B.; Jakobs, P.; Achenbach, S.; Maas, D.; Henzi, P.; Meyer, P.

Seitenaufrufe: 24
seit 01.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2004
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 240057018
HGF-Programm	41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Erscheinungsvermerk	5.Statuskolloquium des Programms Mikrosystemtechnik, Karlsruhe, 10.-11.Februar 2004 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6990 (Januar 2004) (Poster)