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Concept of a MEMS process software specially dedicated to the deep X-ray lithography process

Meyer, P.; Schulz, J.; Solf, C.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240058426
HGF-Programm 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Erscheinungsvermerk Marin, J, [Hrsg.] Industrial Simulation Conf., Malaga, E, June 7-9, 2004 Gent : EUROSIS-ETI, 2004
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