Concept of a MEMS process software specially dedicated to the deep X-ray lithography process
Meyer, P.; Schulz, J.
; Solf, C.
; Solf, C.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2004 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240058426 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE |
| Erscheinungsvermerk | Marin, J, [Hrsg.] Industrial Simulation Conf., Malaga, E, June 7-9, 2004 Gent : EUROSIS-ETI, 2004 |