Fabrication of RF MEMS variable capacitors by deep X-ray lithography and electroplating

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Haluzan, D.; Mappes, T.; Wells, G.; Mohr, J.

Seitenaufrufe: 9
seit 17.04.2021

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2005
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240061878
HGF-Programm	51.04.04 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk	High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005