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Fabrication of RF MEMS variable capacitors by deep X-ray lithography and electroplating

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Haluzan, D.; Mappes, T.; Wells, G.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240061878
HGF-Programm 51.04.04; LK 01
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005
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