Structure quality in deep X-ray lithography applying commercial polyimide-based masks

Achenbach, S.; Börner, M.; Kinuta, S.; Bacher, W.; Mohr, J.; Saile, V.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2005
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240061879
HGF-Programm	51.04.04 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk	High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005