KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Structure quality in deep X-ray lithography applying commercial polyimide-based masks

Achenbach, S.; Börner, M.; Kinuta, S.; Bacher, W.; Mohr, J.; Saile, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240061879
HGF-Programm 51.04.04; LK 01
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page