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Vollständige Prozesskette zur Herstellung von Nickel-Formeinsätzen auf Basis von 6 Zoll Si-Wafern mit Hilfe der UV-Lithographie und des Resistsystems EPON SU-8

Hein, H.; Guttmann, M.; Wilson, S.; Jonigk, C.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2005
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 240062368
HGF-Programm 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Erscheinungsvermerk Mikrosystemtechnik Kongress 2005, Freiburg, 10.-12.Oktober 2005 Berlin [u.a.] : VDE Verl., 2005 Inkl.CD-ROM
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