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High purity Si-C-N thin films with tailored composition on the Tie line SiC-Si₃N₄

Rudolphi, M.; Baumann, H.; Bruns, M.; Geckle, U.; Haußelt, J.; Trouillet, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240065598
HGF-Programm 43.01.06; LK 01
Erscheinungsvermerk 17th European Conf.on Diamond, Diamond-like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Estoril, P, September 3-8, 2006
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