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X-ray lithography for devices with high aspect ratio polymer submicron structures

Mappes, T.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240065610
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk 32nd Internat.Conf.on Micro- and Nano-Engineering (MNE 2006), Barcelona, E, September 17-20, 2006
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