X-ray lithography for devices with high aspect ratio polymer submicron structures
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240065610 |
| HGF-Programm | 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme |
| Erscheinungsvermerk | 32nd Internat.Conf.on Micro- and Nano-Engineering (MNE 2006), Barcelona, E, September 17-20, 2006 |