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Nanostructured SnO₂ layers for gas sensing applications by in-situ deposition of nanoparticles produced by the Karlsruhe microwave plasma process

Schumacher, B.; Ochs, R.; Tröße, H.; Schlabach, S.; Bruns, M.; Szabo, D.V.; Haußelt, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240065616
HGF-Programm 43.03.03 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk 10th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2006), Garmisch- Partenkirchen, September 11-15, 2006
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