Nanostructured SnO₂ layers for gas sensing applications by in-situ deposition of nanoparticles produced by the Karlsruhe microwave plasma process
Schumacher, B.; Ochs, R.; Tröße, H.; Schlabach, S.
; Bruns, M.; Szabo, D. V.
; Haußelt, J.
; Bruns, M.; Szabo, D. V.
; Haußelt, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240065616 |
| HGF-Programm | 43.03.03 (POF I, LK 01) Grenzflächenabhängige Eigenschaften |
| Erscheinungsvermerk | 10th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2006), Garmisch- Partenkirchen, September 11-15, 2006 |