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Process conditions in X-ray lithography for the fabrication of devices with sub-micron feature sizes

Mappes, T.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240067906
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk HARMST, High Aspcect Ratio Micro Structure Technology Workshop, Gyenogju, Korea, June 10-23, 2005
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