Process conditions in X-ray lithography for the fabrication of devices with sub-micron feature sizes
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2007 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240067906 |
| HGF-Programm | 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme |
| Erscheinungsvermerk | HARMST, High Aspcect Ratio Micro Structure Technology Workshop, Gyenogju, Korea, June 10-23, 2005 |