Patterning of porous silicon by metal-assisted chemical etching under open circuit potential conditions

Kapaklis, V.; Georgiopoulos, A.; Poulopoulos, P.; Politis, C.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2007
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240068674
HGF-Programm	52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL
Erscheinungsvermerk	Spring Meeting of the European Materials Research Society, Nice, F, May 29 - June 2, 2006