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Patterning of porous silicon by metal-assisted chemical etching under open circuit potential conditions

Kapaklis, V.; Georgiopoulos, A.; Poulopoulos, P.; Politis, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240068674
HGF-Programm 52.01.01 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk Spring Meeting of the European Materials Research Society, Nice, F, May 29 - June 2, 2006
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