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Relationship of chemical and structural properties with the tribological behavior of sputtered SiCN films

Allebrandt, D.; Bruns, M.; Hauser, R.; Fasel, C.; Hoche, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240070272
HGF-Programm 43.03.06; LK 01
Erscheinungsvermerk 6th Asian-European Conf.on Plasma Surface Engineering, Nagasaki, J, September 24-28, 2007
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