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Relationship of chemical and structural properties with the tribological behavior of sputtered SiCN films

Allebrandt, D.; Bruns, M.; Hauser, R.; Fasel, C.; Hoche, H.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240070272
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erscheinungsvermerk 6th Asian-European Conf.on Plasma Surface Engineering, Nagasaki, J, September 24-28, 2007
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