Why you will use the deep X-ray LIG(A) technology to produce MEMS?
Meyer, P.; Schulz, J.
; Hahn, L.; Saile, V.
; Hahn, L.; Saile, V.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2008 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240072597 |
| HGF-Programm | 43.01.06 (POF I, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien |
| Erscheinungsvermerk | 7th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2007), Besancon, F, June 7-9, 2007 |