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Why you will use the deep X-ray LIG(A) technology to produce MEMS?

Meyer, P.; Schulz, J.; Hahn, L.; Saile, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240072597
HGF-Programm 43.01.06; LK 01
Erscheinungsvermerk 7th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2007), Besancon, F, June 7-9, 2007
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