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Submicron-scale surface acoustic wave resonators fabricated by high aspect ratio X-ray lithography and aluminum lift-off

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Mappes, T.; Kachayev, A.; Subramanian, V.; Wells, G.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240072633
HGF-Programm 43.04.04; LK 01
Erscheinungsvermerk 7th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2007), Besancon, F, June 7-9, 2007
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