Submicron-scale surface acoustic wave resonators fabricated by high aspect ratio X-ray lithography and aluminum lift-off

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Mappes, T.; Kachayev, A.; Subramanian, V.; Wells, G.; Mohr, J.

Seitenaufrufe: 23
seit 19.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2008
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240072633
HGF-Programm	43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Erscheinungsvermerk	7th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2007), Besancon, F, June 7-9, 2007