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Molecular dynamics simulations of the sputtering process of silicon and the homoepitaxial growth of a Si coating on silicon

Prskalo, A.P.; Schmauder, S.; Ziebert, C.; Ye, J.; Ulrich, S.



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seit 13.03.2019
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240077021
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 19th Internat.Symp.on Computational Mechanics of Materials (IWCMM 19), Constanta, R, September 1-4, 2009
Externe Relationen Abstract/Volltext
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