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Low-threshold whispering-gallery dye lasers by planar and 3D lithography on silicon

Grossmann, T.; Schleede, S.; Hauser, M.; Beck, T.; Thiel, M.; Freymann, G.von; Mappes, T.; Kalt, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240082692
HGF-Programm 47.01.03; LK 01
Erscheinungsvermerk Conf.on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2011), Baltimore, Md., May 1-6, 2011 Technical Digest on CD-ROM Washington, D.C. : OSA, 2011
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