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Quality control for deep X-ray lithography (LIGA): a metrology study

Meyer, P.; Claverley, J.D.; Leach, R.K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240084120
HGF-Programm 43.13.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 9th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2011), Hsinchu, Taiwan, June 12-18, 2011
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