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LIGE - Neues von Tiefenlithographie und Abformung

Schulz, J.; Lemke, S.; Mohr, J.; Voigt, A.; Walter, M.; Worgull, M.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2011
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 240084966
HGF-Programm 43.13.01 (POF II, LK 01) Structuring
Erscheinungsvermerk Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011
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