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Tintenstrahldruck ermöglicht eine maskenfreie strukturierte Mikrogalvanik zur Herstellung von miniaturisierten Spulen

Meissner, M. V.; Spengler, N.; Mager, D. ORCID iD icon; Korvink, J. G.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2015
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 240103424
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erscheinungsvermerk MikroSystemTechnik Kongress 2015, Karlsruhe, 26.-28.Oktober 2015
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