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Some properties of a novel far UV xenon excimer barrier discharge light source

Stockwald, Klaus; Neiger, Manfred



Zugehörige Institution(en) am KIT Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240995
Erscheinungsvermerk Contr. to plasma phys. 35 (1995) Jan. S. 12-22.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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