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Optical analysis of Al-layer oxidation during Nb/Al$_2$O$_3$-Al/Nb Josephson junction fabrication

Dolata, Ralf; Neuhaus, Manfred; Jutzi, Wilhelm



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/0011-2275(94)90069-8
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Zitationen: 2
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0011-2275, 1879-2235
KITopen-ID: 242594
Erschienen in Cryogenics
Verlag Elsevier
Band 34
Heft 10
Seiten 833-835
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