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Optical analysis of Al-layer oxidation during Nb/Al$_2$O$_3$-Al/Nb Josephson junction fabrication

Dolata, Ralf 1; Neuhaus, Manfred 1; Jutzi, Wilhelm 1
1 Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik – Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/0011-2275(94)90069-8
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Zitationen: 2
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik – Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0011-2275, 1879-2235
KITopen-ID: 242594
Erschienen in Cryogenics
Verlag Elsevier
Band 34
Heft 10
Seiten 833-835
Nachgewiesen in Scopus
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