X-ray texture and residual stress analysis on photactivated electrolessly plated Cu-layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Maschinenbau – Institut für Werkstoffkunde I (IWK I) |
| Publikationstyp | Buchaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 24912000 |
| Erscheinungsvermerk | In: Proceedings of the International Conference on Micro Materials, Micromat 2000. S. 408-412. |