KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

The influence of sloped absorber sidewalls in deep X-ray lithography

Schulz, J.; El-Kholi, A.; Goettert, Jost; Kadel, Klaus; Mohr, Juergen


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1993
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 251193
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 21
Seiten 117-22
Erscheinungsvermerk Microelectron. engng. 21 (1993) S. 117-121.
Bemerkung zur Veröffentlichung Sonderdrucknummer 94S151
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page