The influence of sloped absorber sidewalls in deep X-ray lithography
Schulz, J.
; El-Kholi, A.; Goettert, Jost; Kadel, Klaus; Mohr, Juergen
; El-Kholi, A.; Goettert, Jost; Kadel, Klaus; Mohr, Juergen| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1993 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 251193 |
| HGF-Programm | 41.01.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Microelectronic Engineering |
| Band | 21 |
| Seiten | 117-22 |
| Erscheinungsvermerk | Microelectron. engng. 21 (1993) S. 117-121. |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Sonderdrucknummer 94S151 |