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On the kinetics of the catalyzed chemical vapor deposition of monocrystalline silicon nitride filaments

Guggenberger, Michael A.; Huettinger, Klaus J.



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seit 14.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 268497
Erscheinungsvermerk Advanc. mater. (CVD) 3 (1997) S. 9.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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