On the kinetics of the catalyzed chemical vapor deposition of monocrystalline silicon nitride filaments
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 268497 |
| Erscheinungsvermerk | Advanc. mater. (CVD) 3 (1997) S. 9. |