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Characteristics of ion-implanted contacts for nuclear particle detectors. Concentration distribution in ion-implanted contacts for semiconductor detectors

Meyer, O.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/270002529
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Forschungsbericht/Preprint
Publikationsjahr 1969
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 270002529
Reportnummer: KFK-1015
Erscheinungsvermerk Nuclear Instruments and Methods, 70 (1969) KFK-1015 (Mai 69)
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