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Enhanced Outdiffusion in Ion Implanted Silicon

Meyer, O.; Mayer, J. W.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/270003860
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Forschungsbericht/Preprint
Publikationsjahr 1970
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 270003860
Reportnummer: KFK-1341
Erscheinungsvermerk Physics Letters, 31 A(1970) KFK-1341 (Dezember 70)
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