Enhanced Diffusion and Out-Diffusion in Ion Implanted Silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Forschungsbericht/Preprint |
| Publikationsjahr | 1970 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 270003861 Reportnummer: KFK-1341 |
| Erscheinungsvermerk | Journal of Applied Physics, 41(1970) KFK-1341 (Dezember 70) |