KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Enhanced Diffusion and Out-Diffusion in Ion Implanted Silicon

Meyer, O.; Mayer, J.W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Forschungsbericht
Jahr 1970
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 270003861
Reportnummer: KFK-1341
Erscheinungsvermerk Journal of Applied Physics, 41(1970) KFK-1341 (Dezember 70)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page