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Analysis of Silicon Nitride Layers Deposited from SiH₄ and N₂ on Silicon

Meyer, O.; Scherber, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Forschungsbericht
Jahr 1971
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 270003863
Reportnummer: KFK-1491
Erscheinungsvermerk Journal of Physics and Chemistry of Solids, 32(1971) KFK-1491 (August 71)
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