Analysis of Silicon Nitride Layers Deposited from SiH₄ and N₂ on Silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Forschungsbericht/Preprint |
| Publikationsjahr | 1971 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 270003863 Reportnummer: KFK-1491 |
| Erscheinungsvermerk | Journal of Physics and Chemistry of Solids, 32(1971) KFK-1491 (August 71) |