Impurity Incorporation during rf Sputtering of Silicon Oxide Layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Forschungsbericht/Preprint |
| Publikationsjahr | 1972 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 270006098 Reportnummer: KFK-1525 |
| Erscheinungsvermerk | Physica status solidi (a), 14(1972) KFK-1525 (April 72 - April 73) |