Plasmaloses und laserinduziertes Ätzen von Silicium mit den Halogenen Fluor, Chlor und Brom
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Forschungsbericht/Preprint |
| Publikationsjahr | 1995 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | urn:nbn:de:swb:90-AAA2700372850 KITopen-ID: 270037285 Reportnummer: FZKA-5574 |
| HGF-Programm | 52.01.13 (Vor POF, LK 01) |
| Serie | Wissenschaftliche Berichte. FZKA ; 5574 |