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Plasmaloses und laserinduziertes Ätzen von Silicium mit den Halogenen Fluor, Chlor und Brom

Köhler, U.; Guber, A.; Bier, W.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/270037285
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Forschungsbericht
Jahr 1995
Sprache Deutsch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-AAA2700372850
KITopen-ID: 270037285
Reportnummer: FZKA-5574
HGF-Programm 52.01.13 (Vor POF, LK 01)
Serie Wissenschaftliche Berichte. FZKA ; 5574
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