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DOI: 10.5445/IR/270049811

Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation

Dattoli, G.; Doria, A.; Gallerano, G.P.; Giannessi, L.; Hesch, K.; Moser, H.O.; Ottaviani, P.L.; Pellegrin, E.; Rossmanith, R.; Steininger, R.; Saile, V.; Wüst, J.

Abstract:
Extreme Ultraviolett (EUV) Strahlungsquellen für die Lithographie basierend auf Synchrotron Strahlung
Die vorliegende Studie beschreibt Überlegungen, Synchrotron Strahlung als Quelle für die Lithographie der nächsten Generation (Next Generation Lithography: NGL) basierend auf EUV Strahlungzu verwenden (EUV bedeutet hier Strahlung mit einer Wellenlänge von 13.5 oder 11.3 nm). Die Anforderungen an die Quelle sind: 50 W, 2% Bandbreite und geringe Leistung außerhalb dieser Bandbreite.Es wurden drei Möglichkeiten untersucht. Die ersten beiden beziehen sich auf die Strahlun ... mehr

Abstract (englisch):
The study presented here was initiated by a discussion to investigate the possibility of using synchrotron radiation as a source for the Next Generation Lithography (NGL) based on the EUV-concept (Extreme Ultra-Violet; here 13.5 nm or 11.3 nm radiation, respectively). The requirements are: 50 W, 2% bandwidth and minimal power outside this bandwidth. Three options were investigated. The first two deal with radiation from bending magnets and undulators. The results confirm the earlier work by Oxfords Instrument and others that these light-sources lack in-band power while ... mehr


Zugehörige Institution(en) am KIT Stabsabteilung Technologietransfer und Marketing (TTM)
Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Forschungsbericht
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0947-8620
URN: urn:nbn:de:swb:90-AAA2700498112
KITopen ID: 270049811
Reportnummer: FZKA-6606
HGF-Programm 51.04.04; LK 01
Verlag Forschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe
Umfang 9 S.
Serie Wissenschaftliche Berichte. FZKA ; 6606
Erscheinungsvermerk Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6606 (Mai 2001) Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A, 474(2001)
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