Simulation der Bestrahlung und Entwicklung von Resists mittels Röntgentiefenlithographie und optischer Lithographie
Schulz, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Buchaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 280048812 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Seiten | 139-52 |
| Erscheinungsvermerk | Workshop zum Thema 'Simulationen in der Mikrosystemtechnik', Forschungszentrum Karlsruhe, 26.Oktober 2000 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6564 (November 2000) |