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Simulation der Bestrahlung und Entwicklung von Resists mittels Röntgentiefenlithographie und optischer Lithographie

Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 280048812
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Seiten 139-52
Erscheinungsvermerk Workshop zum Thema 'Simulationen in der Mikrosystemtechnik', Forschungszentrum Karlsruhe, 26.Oktober 2000 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6564 (November 2000)
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