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Simulation der Bestrahlung und Entwicklung von Resists mittels Röntgentiefenlithographie und optischer Lithographie

Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 280048812
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Seiten 139-52
Erscheinungsvermerk Workshop zum Thema 'Simulationen in der Mikrosystemtechnik', Forschungszentrum Karlsruhe, 26.Oktober 2000 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6564 (November 2000)
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