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Arbeitsmasken für die Röntgentiefenlithographie

Hein, H.; Janssen, A.; Matthis, B.; Jakobs, P.; Achenbach, S.; Maas, D.; Henzi, P.; Meyer, P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 2004
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 280057018
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Seiten 183-84
Erscheinungsvermerk 5.Statuskolloquium des Programms Mikrosystemtechnik, Karlsruhe, 10.-11.Februar 2004 Wissenschaftliche Berichte, FZKA-6990 (Januar 2004) (Poster)
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