Examination of the solubility and the molecular weight distribution of PMMA in view of an optimised resist system in deep etch X-ray lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1993 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0167-9317, 1873-5568 KITopen-ID: 31093 |
| HGF-Programm | 41.01.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Microelectronic engineering |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 21 |
| Heft | 1-4 |
| Seiten | 271-274 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Sonderdrucknummer 93S125 |