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Examination of the solubility and the molecular weight distribution of PMMA in view of an optimised resist system in deep etch X-ray lithography

El-Kholi, A.; Bley, Peter; Goettert, Jost; Mohr, Juergen



Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1993
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 31093
HGF-Programm 41.01.02; LK 01
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 21
Seiten 271-74
Erscheinungsvermerk Microelectron. engng. 21 (1993) S. 271-274.
Bemerkung zur Veröffentlichung Sonderdrucknummer 93S125
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