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A digital tester based measurement methodology for process control in multilevel metallization systems

Hess, Christopher; Weiland, Larg H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Rechnerentwurf und Fehlertoleranz (IRF)
Publikationstyp Buchaufsatz
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 313695
Erscheinungsvermerk In: Proceedings. 1995 SPIEs Microelectronic Manufacturing Process, Equipment and Material Control in Integrated Circuit Manufacturing, Austin, Tex. 1995. Bellingham, Wash. 1995. S. 125-136. (Proceedings. SPIE. 2637.)
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