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In-situ low pressure oxygen annealing of YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$ single- and multilayer systems

Ockenfuss, G.; Woerdenweber, R.; Scherer, Theo; Unger, R.; Jutzi, Wilhelm



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/0921-4534(94)02449-9
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Zitationen: 24
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Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0921-4534, 1873-2143
KITopen-ID: 316495
Erschienen in Physica / C
Band 241
Seiten 24-28
Bemerkung zur Veröffentlichung 241 (1995) S. 24-28.
Nachgewiesen in Web of Science
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