In-situ low pressure oxygen annealing of YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$ single- and multilayer systems

In-situ low pressure oxygen annealing of YBa $_{2}$ Cu $_{3}$ O $_{7 - δ}$ single- and multilayer systems

Ockenfuss, G.; Woerdenweber, R.; Scherer, Theo ¹; Unger, R. ¹; Jutzi, Wilhelm ¹
¹ Universität Karlsruhe (TH)

Zugehörige Institution(en) am KIT	Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik – Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1995
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0921-4534, 1873-2143 KITopen-ID: 316495
Erschienen in	Physica / C
Verlag	North-Holland Publishing
Band	241
Seiten	24-28
Bemerkung zur Veröffentlichung	241 (1995) S. 24-28.
Nachgewiesen in	Web of Science Scopus Dimensions OpenAlex
Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/0921-4534(94)02449-9

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