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Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists

Chung, Song-Jo; Hein, H.; Schulz, J.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/32698
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 1998
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 32698
Reportnummer: FZKA-6111
HGF-Programm 41.01.04 (Vor POF, LK 01)
Verlag Universität Karlsruhe (TH)
Erscheinungsvermerk Karlsruhe 1998. (Wissenschaftliche Berichte. FZKA. 6111.) Fak. f. Maschinenbau, Diss. v. 24.4.1998 von Song-Jo Chung.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Prüfungsdaten Diss. v. 24.4.1998
Externe Relationen Abstract/Volltext
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