Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists
Chung, Song-Jo; Hein, H.; Schulz, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 1998 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 32698 Reportnummer: FZKA-6111 |
| HGF-Programm | 41.01.04 (Vor POF, LK 01) |
| Verlag | Universität Karlsruhe (TH) |
| Erscheinungsvermerk | Karlsruhe 1998. (Wissenschaftliche Berichte. FZKA. 6111.) Fak. f. Maschinenbau, Diss. v. 24.4.1998 von Song-Jo Chung. |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Maschinenbau (MACH) |
| Institut | Fakultät für Maschinenbau (MACH) |
| Prüfungsdaten | Diss. v. 24.4.1998 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |