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Issues on the size and outline of killer defects and their influence on yield modeling

Hess, Christopher; Weiland, Larg H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Rechnerentwurf und Fehlertoleranz (IRF)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 1996
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 337896
Erscheinungsvermerk In: Proceedings. Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, ASMC, Boston, USA 1996. S. 423-428.
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