Consequence of high resolution lithography for the design in the paraxial domain

Aagedal, Harald; Wyrowski, Frank; Schmid, Michael; Mueller-Quade, Jörn; Beth, Thomas

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Fakultät für Informatik – Institut für Algorithmen und Kognitive Systeme (IAKS)
Publikationstyp	Buchaufsatz
Publikationsjahr	1997
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 342797
Erscheinungsvermerk	In: Proceedings. Diffractive Optics Conference, Savonlinna, Finland 1997. S. 166-167. (European Optical Society topical meetings digest series. 12.)