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Consequence of high resolution lithography for the design in the paraxial domain

Aagedal, Harald; Wyrowski, Frank; Schmid, Michael; Mueller-Quade, Jörn; Beth, Thomas



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Algorithmen und Kognitive Systeme (IAKS)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 342797
Erscheinungsvermerk In: Proceedings. Diffractive Optics Conference, Savonlinna, Finland 1997. S. 166-167. (European Optical Society topical meetings digest series. 12.)
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